Dépôt d'oxydes
Machine de dépôt d'oxydes sur des wafers de 2 à 18'' avec une uniformité de dépôt unique
Technologie CBVD développée avec notre partenaire 3D Oxides
Excellente uniformité sur des wafers jusqu'au Ø450 mm
Monitoring en temps réel pour le maintien des conditions idéales de croissance
Processus entièrement automatisé
